第1139章 不够!远远不够!
国家超导约束聚能研究所。
实验室。
钱宏远看着屏幕上的数据,眉头紧锁。
“主堆稳定输出功率下降约5%,为了这30W的EUV光源输出,硬生生让聚变堆核心功率掉了5%。”
“李工,这代价…”
他的目光转向李阳,带着询问和忧虑。
聚变堆功率的稳定是核心指标,任何损耗都意味着整体能量的损失,尤其是在追求稳定输出的“龙神堆”
项目中。
周围的空气仿佛也因为这5%的损耗而凝固了。
研究员们脸上的喜色早已褪去,取而代之的是凝重。
30W的EUV光源功率确实是一个振奋人心的突破,远超之前25W的设计基准,证明了“磁约束同步辐射光源”
原理的可行性。
但这5%的功率损耗,像一根刺,扎在所有人的心头。
能量守恒,粒子束流偏转产生的EUV辐射能量并非凭空而来,其代价就是主堆的能量被分走了。
李阳没有立刻回答钱宏远的问题,他站在主控台前,目光扫过屏幕上详细的运行数据流:
等离子体湍流抑制率、约束磁场波动频谱、粒子束轨道偏移量、能量非预期损耗分布……
不知过了多长时间,李阳眼睛一凝,轻轻开口。
“磁场互扰!”
声音平静,听不出情绪波动,却精准点出了核心问题。
“粒子束流通过耦合节点时,其自身携带的强磁场与聚变堆主约束磁场产生了相互干扰。”
“这种干扰不仅导致粒子束轨道不稳,能量损耗超标,更关键的是,它干扰了堆芯边缘区的磁场稳定性,引发了撕裂模扰动。”
“为了抑制这些扰动,反场箍缩算法启动并维持隔离场,又额外消耗了能量。”
“双重因素叠加,最终导致5%的功率损失。”
他顿了顿,手指在触摸屏上快速操作,调出了粒子束流通道和耦合节点的三维磁场模拟图。
“问题的关键在耦合节点区域的磁场屏蔽和粒子束注入参数的优化。”
“这种程度的干扰,在理论模拟的边界阈值内,但不是最优解。”
钱宏远看着那些复杂的磁场力线叠加区域,大概理解了李阳的判断。
“干扰源太强了?需要更强的隔离?”
“不仅仅是隔离强度的问题。”
李阳摇了摇头。
“单纯的物理隔离,会增加系统复杂性和能量传递损失。”
“我们需要的是一种更高效、更精准的解决方案。”
他看向钱宏远,问道。
“钱教授,还记得我们为新型复合材料准备的‘石墨烯涂层模块’
吗?特殊处理的那一批!”
钱宏远一怔,随即眼中爆发出光芒。
“你是说…那种具备超高热导率和超高电磁屏蔽性能的复合石墨烯涂层?那个不是用来做……”
“对!”
李阳打断他,语气肯定。
“立即调取备用库存,并在所有粒子束流通道的内壁,以及粒子束流与堆芯磁场的关键耦合节点区域,全覆盖加装这种涂层,厚度控制在之前实验验证的最佳值。”
钱宏远立刻明白了李阳的意图。
“利用石墨烯的超高电磁屏蔽性能,隔绝粒子束流自身磁场对主约束场的穿透干扰!同时其超高热导率还能辅助散热!”
“没错!”
李阳点头,同时转向控制台,对冯建辉说道。
“冯教授,同步进行粒子加速器注入方案的调整。”
“在不影响EUV辐射效率的前提下,降低粒子束流在强磁场区域的停留时间和能量密度峰值,找到新的稳定点。”
“参数调整方向:降低初始注入能量5%,优化偏转轨道曲率半径,将注入相位角前移0.15弧度……”
此次是临时任务,有多个部门参与其中,冯建辉等人,自然也在其中,任由李阳调配。
冯建辉没有丝毫犹豫。
“明白!立刻执行参数优化计算!”
整个实验室迅速从刚才的挫败感中脱离,再次高速运转起来。
数小时后,二次耦合点火测试准备就绪。
“石墨烯涂层加装完毕,检测合格!”
“粒子注入新参数锁定:注入能量下调4.8%,轨道曲率半径优化2.1%,相位角前移0.142弧度。最优‘甜蜜点’
确认!”
“启动预充磁系统,场强30%稳定!”
“粒子注入!轨道监测正常!”
“超导主磁场强度提升至标准运行值!”
这一次,当高速粒子束流沿着优化后的轨道呼啸而过,在强磁场作用下偏转时。
主控室的大屏上,代表主约束磁场波动的频谱曲线异常平稳。
之前那些剧烈的毛刺几乎消失不见。
耦合节点区域的磁场监测数据显示,石墨烯涂层发挥了强大的电磁屏蔽作用。
“粒子束流轨道锁定,高度稳定,能量损耗率低于预期值!”
“捕捉到高能辐射信号!峰值波长确认...13.5纳米!”
“EUV输出功率计算…”
负责监测的研究员声音带着一丝不易察觉的激动。
“初始功率…32W,稳定在…35W!”
“35W!!!”
钱宏远忍不住惊叫,满脸骇然。
这个数值,比第一次测试的峰值还高!
还没有让他回过神,更关键的数据紧随其后。
“主约束磁场监测,波动幅度低于安全阈值10%!”
“等离子体湍流抑制率维持在设计值,堆芯核心温度稳定,无异常升温。”
负责功率监测的研究员也连忙汇报。
“主堆稳定输出功率…短暂下降1.2%,3秒后恢复平稳,整体影响低于1.5%!”
一声声汇报,响彻整个实验室。
所有听到这些结果的研究员,还有钱宏远、冯建辉等人,都呆住了。
成功了!?
不仅成功了,结果还异常出色。
解决了问题的同时,还远超了第一次测试的数据!
巨大的压力瞬间消散,实验室里响起一片压抑后的欢呼声。
“太好了,终于成功了!”
“李工牛逼。”
“还以为又要以失败告终了,没想到啊,最后李工竟然挽狂澜于既倒!”
“还得是李工啊!”
“……”
研究员们的激动,溢于言表。
第二次测试的结果,出奇之好。
石墨烯涂层的电磁屏蔽效果和优化后的粒子注入参数完美匹配,将干扰降到了最低限度,代价从5%锐减到可忽略的1.2%,而EUV光源功率反而提升到了35W!
李阳脸上充满了笑容,但也只是持续了片刻。
他对这个结果很满意,当然也在预料之中。
只是,单单做到这一步,还远远不够。
他要的,是独立自主的造出光刻机!
他立刻吩咐道。
“钱教授,立刻组织人手,全面分析第二次测试的所有数据,特别是粒子束流的精准控制参数、辐射强度分布以及磁场同步性……”